使用扫描电镜进行纳米级观察时需要注意哪些因素？

使用扫描电子显微镜（SEM）进行纳米级观察时，需要特别注意以下几个关键因素，以确保高分辨率成像、准确分析，并减少可能的误差或伪影。

如何提高扫描电镜的成像速度而不损失分辨率？

要提高扫描电子显微镜（SEM）的成像速度，同时保持较高的分辨率，需要综合优化电子束参数、扫描方式、探测器设置和信号处理。

在扫描电镜（SEM）成像过程中，漂移会导致图像模糊、细节丢失，特别是在高倍率和长曝光时间下尤为明显。

普通的扫描电子显微镜（SEM）不能直接观察湿样品，因为 SEM 需要高真空环境来防止电子束散射，而湿样品中的水分在真空中会迅速蒸发，导致样品形态变化甚至损坏。

在扫描电镜（SEM）成像过程中，非导电样品容易产生充电效应，导致图像模糊、亮度不均、漂移或伪影。

优化扫描电镜（SEM）的曝光时间需要在信噪比（SNR）、分辨率、样品损伤和成像时间之间取得平衡。

扫描电镜（SEM）光束偏移会导致成像不清晰、分辨率下降、甚至样品漂移。

扫描电镜在对磁性材料（如铁、钴、镍及其合金）成像时，可能会受到磁场干扰，导致成像质量下降。